Посемичка производња захтева ултра - прецизну, корозију - отпорне канале:
Димензионална прецизност:
316Л Канали од нехрђајућег челика (АСТМ А276) са уским толеранцијама (± 0,1 мм) Одржавајте 0,5 мм чишћења за резове, критично за производњу 5нм чипова. Таиван'с ТСМЦ користи у - канале са димензијама 80 × 40 × 5 мм како би се спречило увлачење честица.
Хемијска отпорност:
Канали са 2,5% молибденским садржајем одуприје се експозицији хидрофлуоричне киселине (ХФ), трајним 1, 000+ циклусима за чишћење без питања. Самсунг Јужна Кореја у своје 300 мм вафер фабс, смањујући замену опреме за 70%.
Површински завршетак:
ЕЛЕЦТРО - Полирани канали (РА мањи од или једнак од 0,02 уМ) Минимизирајте лепљење честица, састанке Семи Ф20 Цласс 1 стандарда. Јапанска Токио Елецтрон одређује ЈИС Г4305 СУС316 канала за овај критични захтев.
Регионално усвајање:
Америчке полуводичке биљке користе АСТМ А479 канале са минималном дебљином 6 мм, док Кинески СМИЦ преферира ГБ / Т 1220 06 ЦР17МО2 канала за трошкове - осетљиве 28нм процесе.